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北京晶迈中科材料技术有限公司

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首页 > 供应产品 > 钼靶材Mo磁控溅射靶材
钼靶材Mo磁控溅射靶材
产品: 浏览次数:0钼靶材Mo磁控溅射靶材 
品牌: 京迈研
单价: 1000.00元/片
最小起订量: 1 片
供货总量: 10 片
发货期限: 自买家付款之日起 21 天内发货
有效期至: 长期有效
最后更新: 2020-09-18
 
详细信息
 科研实验专用钼靶材Mo磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
产品介绍
     钼(Mo)为银白色金属,硬而坚韧,与钨一样是一种难熔稀有金属;钼在常温下不与HF、HCI、稀HNO3、稀H2SO4及碱溶液反应;钼只溶于浓HNO3、王水或热而浓的H2SO4、煮沸的HCI中。钼的化学性质比较稳定,常温或在不太高的温度下,钼在空气或水里是稳定的;在空气中加热,颜色开始由白(色)转暗灰色;温升至520℃,钼开始被缓慢氧化,生成三氧化钼;温升至600℃以上,钼迅速被氧化成MoO3。钼在水蒸气中加热至700~800℃便开始生成MoO2,将它进一步加热,二氧化钼被继续氧化成三氧化钼。
产品参数
中文名 钼       化学式 Mo      分子量 95.95
熔点 2620 ℃ 沸点 5560℃    密度 10.2g/cm3
纯度 99.95%
支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 
服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!
产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 
质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 
加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!
       我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。
       注意:高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!
       建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。
询价单
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